Your browser does not support JavaScript! Öfen für CVI, CVD und Reinigung von Graphitmaterialien

Industrial furnaces for CVI, CVD and purification of graphite materials

Vacuum furnaaces - graphene purification

Industrieöfen für CVIund CVDVerfahren sowie die Reinigung von graphitischen Materialien 

Chemische Dampfphaseninfitration | Chemische Gasphasenabscheidung | Reinigung | Graphitierung 

 

 

CVI-Öfen (chemische Dampfphaseninfitration, eng. Chemical Vapor Infiltration) sind spezielle Lösungen für das CVI-Verfahren, eine Technik zur Herstellung kohlenstoffhaltiger Materialien, wie z. B. Graphit, durch Kohlenstoff-Sättigung in der Dampfphase. 
Sie sind so konzipiert, dass sie eine kontrollierte Abscheidung amorpher Kohlenstoffschichten ermöglichen. 

CVD-Öfen (Chemische Gasphasenabscheidung, eng. Chemical Vapor Deposition) sind spezielle Öfen für das CVD-Verfahren (Beschichtungsverfahren), eine Technik zur Herstellung von Beschichtungen durch chemische Reaktionen in der Gasphase, z. B. aus MTS CH3SiCl3 Methyltrichlorsilan-Gas.  

Sie sind so konzipiert, dass sie eine kontrollierte Abscheidung von Materialien auf der Oberfläche der zu behandelnden Materialien ermöglichen. 

Gasreinigungsöfen (die Gase wie Chlorwasserstoff (HCl) verwenden) dienen der Reinigung von graphitischen Materialien. 

Die lange Geschichte von SECO/WARWICK im Zusammenhang mit der Produktion von Öfen für die Infiltration von graphitischen Schilde für die Luftfahrtindustrie reicht bis in die 80er Jahre zurück. Die über Jahrzehnte gesammelte Erfahrung befähigt uns als Geschäftspartner, über unschätzbare Kenntnisse, Kompetenzen und Fähigkeiten zu verfügen, die erfolgreich den höchsten Anforderungen und Erwartungen unserer Partner gerecht werden.

 

 

CVI (Chemische Gasphasenabscheidung, eng. Chemical Vapor Infiltration), CVD (Chemische Gasphasenabscheidung, eng. Chemical Vapor Deposition) und Graphit-Reinigungsanlagen sind Werkzeuge, die in der Werkstofftechnik zur Herstellung, Behandlung und Reinigung von Kohlenstoffmaterialien wie Graphit eingesetzt werden. 

CVI-Anlagen bestehen aus einem Reaktor oder einer Reaktionskammer, in der chemische und Temperaturparameter gesteuert werden, um Kohlenstoffschichten auf der Substratoberfläche abzuscheiden. 

CVI ist ein Verfahren, bei dem kohlenstoffhaltiges Material (in der Regel in Form einer porösen Struktur) mit kohlenstoffhaltigen Stoffen in der Gasphase gesättigt oder durchtränkt wird. Beim CVI-Verfahren werden kohlenstoffhaltige Gase wie Methan oder Acetylen verwendet, die in einem Reaktor reagieren und Kohlenstoffablagerungen auf der Substratoberfläche bilden. 

Die CVI-Technologie wird bei der Herstellung von Carbon-Bremsscheiben für Leistungs-, Sport-, Elektro- und Luxusfahrzeuge eingesetzt. Bei der Herstellung von Bremsscheiben ermöglicht das Verfahren die Schaffung einer Struktur mit außergewöhnlicher Festigkeit und geringem Gewicht, was für eine effektive Bremswirkung entscheidend ist. Durch diese präzise Prozesssteuerung verfügen die mit CVI hergestellten Bremsscheiben über eine ausgezeichnete Hitzebeständigkeit, minimalen Verschleiß und hervorragende Reibungseigenschaften, die die Sicherheit und Bremsleistung von Fahrzeugen gewährleisten. 

CVD-Anlagen umfassen eine Reaktionskammer, in der Parameter wie Temperatur, Druck und chemische Zusammensetzung des Prozessgases gesteuert werden. 

CVD ist ein Verfahren zur Beschichtungsherstellung auf der Substratoberfläche durch chemische Reaktionen in der Gasphase. 

Die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) ist ein Verfahren, das z. B. zur Herstellung von Schutzschichten (Werkzeugbohrungen) eingesetzt wird. Der CVD-Ofen ermöglicht das Bilden einer Schutzbeschichtung auf den Werkzeugen, was die Werkzeugslebensdauer, -festigkeit und -wirksamkeit bei der Bearbeitung erhöht. Beim CVD-Verfahren können Schichten auf der Werkzeugsoberfläche durch chemische Reaktionen abgeschieden werden, die dessen Eigenschaften verbessern. Diese Beschichtungen bieten eine verbesserte Abrieb- und Hitzbeständigkeit, sowie korrosive Umgebung, was zu einer längeren Werkzeugslebensdauer und einer höheren industriellen Produktionseffizienz führt. 

Bei der Graphitreinigung werden Unreinheiten und Verunreinigungen aus dem Graphitmaterial entfernt, um dessen Reinheit und hervorragende Eigenschaften zu erhöhen. 

Zur Graphitreinigung werden verschiedene Techniken, Wärmebehandlungen und chemische Verfahren eingesetzt. 

Die Reinigung von Graphit unter Verwendung von Prozessgasen wie Fluor und Chlor erfolgt in einem speziell dafür vorgesehenen Ofen, der eine kontrollierte Entfernung von Verunreinigungen aus dem Graphitmaterial ermöglicht. Dieses fortschrittliche Verfahren nutzt die reaktiven Eigenschaften von Fluor und Chlor, um Verunreinigungen wie Metallverbindungen oder andere Beimengungen durch chemische Reaktionen zu entfernen. Bei der Reinigung wird der Graphit in Gegenwart dieser Gase hohen Temperaturen ausgesetzt, wodurch sie sie in Wechselwirkung mit Schadstoffen und wandeln diese in leicht verdampfbare oder flüchtige Verbindungen umtreten. Dieser Prozess ist entscheidend für die Herstellung hochwertiger Graphitmaterialien, die in fortschrittlichen Technologien wie der Brennstoffzellen-Produktion, der Elektronikindustrie oder der Herstellung von feuerfesten Materialien verwendet werden. Mit Öfen, die Fluor und Chlor verwenden, ist es möglich, reinen Graphit mit sehr hohen Qualitätsstandards zu erhalten, was für Anwendungen, bei denen die Materialreinheit entscheidend ist, äußerst wichtig ist. 

/ CVI 

Automobilindustrie: Bei der Rennwagenproduktion und anderen Hochleistungsfahrzeugen werden häufig Bremsscheiben aus Verbundwerkstoffen verwendet, die nach dem CVI-Verfahren aufgrund ihrer Leichtigkeit und Festigkeit hergestellt werden. 

Luft- und Raumfahrt: CVI-Produkte werden bei der Herstellung von Flugzeugteilen verwendet, z. B. bei Struktur- und Schutzkomponenten, die extrem leicht und dennoch widerstandsfähig sein müssen. Die CVI-Produkte werden für die Herstellung von Komponenten mit sehr geringem Gewicht und geringer Festigkeit verwendet, wie z. B. Bremsscheiben, Brennkammern und Strukturbauteile in Raketenmotoren. 

Energiewirtschaft: Das CVI-Verfahren wird zur Herstellung von Bauteilen verwendet, die in der Energiewirtschaft zum Einsatz kommen, z. B. Isoliermaterialien und Bauteile für Kernreaktoren. 

Verteidigungsindustrie: CVI-Produkte werden bei der Herstellung von Schutzkomponenten wie z. B. Schlachtschiffschilde oder Raumanzugselemente verwendet. 

Forschung und Entwicklung: Mit dem CVI-Verfahren hergestellte Werkstoffe werden in Labors zur Herstellung von Proben und Komponenten für wissenschaftliche Experimente verwendet, insbesondere in Bereichen mit hohen Temperaturen und aggressiven Umgebungen. 

Chemische Industrie: CVI-Produkte können in der chemischen Industrie zur Herstellung robuster, chemikalien- und hitzebeständiger Komponenten eingesetzt werden. 

/ CVD 

Herstellung von Verbundwerkstoffen: Die CVD-Technologie wird zur Abscheidung von Keramik in Verbundwerkstoffen eingesetzt. 

Elektronik: CVD wird zur Herstellung der Halbleiter-Dünnschichten wie Silizium verwendet, die bei der Herstellung von Mikroprozessoren, Transistoren und anderen elektronischen Bauteilen eingesetzt werden. 

Oberflächenschutz: Schutzschichten, z. B. durch CVD abgeschiedene Diamantschichten, werden verwendet, um die Abrieb- und Korrosionsbeständigkeit verschiedener Materialien zu erhöhen. 

Chemische Industrie: CVD wird zur Herstellung der Katalysatoren und Membranen mit besonderen chemischen Eigenschaften eingesetzt. 

Luft- und Raumfahrt: Die CVD-Technologie wird in der Herstellung von hochfesten, leichten Kohlenstoffverbundwerkstoffen und anderen Strukturmaterialien für den Raumfahrzeug- und Flugzeugbau eingesetzt. 

Diese kann verwendet werden, um Graphitschichten auf Metallsubstrate als Korrosionsschutz aufzubringen. Diese Schichten können sehr widerstandsfähig bei Exposition in einer aggressiven, chemischen Umgebung sein. 

Herstellung von Verbundwerkstoffen: Die CVD-Technologie wird zur Abscheidung von Keramik in Verbundwerkstoffen eingesetzt. 

/ Reinigung

Bei der Reinigung von Graphitmaterialien werden Verunreinigungen aus Graphit oder Graphitmaterialien entfernt, um Produkte mit hoher Reinheit und spezifischen Eigenschaften zu erhalten. Zu den Anwendungen der Reinigung von Graphitmaterialien gehören: 

Elektronik: In der Elektronikindustrie wird reiner Graphit für die Herstellung von Elektroden, Einspritzelektroden, Elektroden in Elektronenröhren und Batterieelektroden verwendet. Bei der Reinigung von Graphit entstehen Materialien mit hoher elektrischer und thermischer Leitfähigkeit, was für viele elektronische Anwendungen wichtig ist. 

Chemische Industrie: Reiner Graphit wird bei der Katalysatorenherstellung, Elektrolyseelektroden, chemischen Reaktoren und Komponenten in chemischen Prozessen verwendet, weshalb es wichtig ist, Verunreinigungen zu beseitigen, die chemische Prozesse stören könnten. 

Metallurgische Industrie: Graphit wird in metallurgischen Prozessen wie der Stahlerzeugung verwendet, um hohe Temperaturen zu erreichen und Metalloxide zu reduzieren. Die Reinheit des Graphits ist wichtig, um Verunreinigungen in metallurgischen Prozessen zu vermeiden. 

Energiewirtschaft: In Wärmekraftwerken und Kernreaktoren wird Graphit als Moderator- oder Neutronenmoderatormaterial verwendet. Die hohe Reinheit von Graphit ist für diese Anwendungen entscheidend. 

Wissenschaftliche Forschung: In der wissenschaftlichen Forschung, insbesondere in den Bereichen Festkörperphysik, Chemie und Nanotechnologie, wird reiner Graphit zur Proben- und Laborgeräteherstellung verwendet. Die Reinigung der Graphitmaterialien ist für die Erzielung genauer Versuchsergebnisse unerlässlich. 

Luft- und Raumfahrt: Graphit wird bei der Bauteileherstellung wie Gehäuseteile und Tragstrukturen in Raumfahrzeugen und Flugzeugen verwendet. Der hohe Reinheitsgrad des Graphits trägt dazu bei, die Festigkeit und Leichtigkeit dieser Bauteile zu erhalten. 

Die Reinigung von Graphitmaterialien ist wichtig, da Verunreinigungen die Stoffeigenschaften und -leistungsfähigkeit in verschiedenen Anwendungen beeinträchtigen können. Die Reinigungsverfahren können verschiedene Methoden umfassen, wie z. B. chemische Prozesse, Wärmebehandlung und mechanische Behandlung, um wünschenswerte Eigenschaften des Graphitmaterials zu erreichen. 

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