Your browser does not support JavaScript! Vakuum-Metallurgie und Vakuum-Induktionsschmelzen - SECO/WARWICK
VACUUM MELTING FURNACE SYSTEMS

VAKUUM-SCHMELZÖFENANLAGEN

 

Vakuum-Schmelztechnologien und Ausrüstung

 

Die vakuum-metallurgischen Anlagen von Retech werden in unseren Werken in den Vereinigten Staaten und Polen hergestellt, den Regionen mit der höchsten Nachfrage nach Hochschmelz- und Gießereitechnologien. Seit 2006 ist Retech ein Teil der SECO/Warwick Gruppe und bietet damit den Kunden noch umfassendere Lösungen für Schmelz- und Wärmebehandlungsöfen.

Technologien: Plasma-Lichtbogenschmelzen (PAM), Elektronenstrahlschmelzen (EB), Vakuum-Induktionsschmelzen (VIM) und Vakuum-Lichtbogen-Umschmelzen (VAR)

Anwendungen: Metallschmelzen und Legieren, Equiax (EQ), Gerichtetes Erstarren (DS), Einkristallguss (SC), Kaltwand-Induktionsschmelzen (CWI),

Industrien: Luft- und Raumfahrt, Energie, Verteidigung, Pulvermetallurgie, Medizin, Automobil und Kernkraft.

Einzigartige Features: hohe Leistung, Wiederholbarkeit durch Prozessautomatisierung und moderne Steuerungssysteme, Präzisionsvorschubsysteme.

Verarbeitete Materialien: Titan und seine Legierungen, Tantal, Wolfram, Niob, Zirkonium, Silizium, Nickel, Kobaltlegierungen und andere.

Für weitere Informationen gehen Sie zu www.retechsystemsllc.com

Produktmaterialien

 General Retech Vacuum Metallurgical Equipment – brochure

 Electron Beam Melting Furnaces – brochure

(EB), Kaltherdofen (EBCH) und Schmelzofen (EBDM).

 Plasma ARC Melting (PAM) Furnaces – brochure

Effektive Methode zur Metallveredelung

 Vacuum Arc Remelting (VAR) Systems – brochure

 Vacuum Induction Melting (VIM) Furnaces – brochure

Gleichachsiges Gießen (Equiax), DS/SC-Gießen, Coldwall Induktionsgießen

 Vacuum ARC Remelting (VAR) Furnaces – brochure

Titan, Zirkonium, Edelstahl, Werkzeugstahl und Superlegierungen

 Plasma ARC Melting (PAM) Furnaces – brochure

Effektive Methode zur Metallveredelung

 Electron Beam Melting Furnaces – brochure

(EB), Kaltherdofen (EBCH) und Schmelzofen (EBDM).

 

 

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