Technologien und Ausrüstung für die Vakuumwärmebehandlung
Innovative Vakuumanlagen für die Vakuum-Wärmebehandlung
Moderne, präzise, energieeffiziente und ökologische Vakuumanlagen mit bewährter Technik. Die Erfahrung von SECO/WARWICK bei der Entwicklung dieser Lösungen reicht bis in die 70er Jahre des 20. Jahrhunderts zurück, als in der Luft- und Raumfahrt-, Automobil-, Verteidigungs-, Metallurgie-, Medizin-, Nuklear- und Versorgungswirtschaft vakuumbasierte Wärmebehandlungstechnologien entstanden. In den vergangenen 25 Jahren hat die dynamische Entwicklung des Unternehmens mehr als 700 komplette Installationen in mehr als 40 Ländern geliefert und viele der gelieferten Technologien sind zu einer Herausforderung für traditionelle Technologien geworden.
- CaseMaster Evolution TCaseMaster EvolutionUniCase Master®
/ Technologien:
Glühen, Hartlöten, Sintern, Gas- und Ölhärten (HPGQ), FineCarb® und PreNitLPC Aufkohlung (LPC), Nitrieren und andere spezielle technologische Prozesse./ Einzigartige Eigenschaften:
dynamisches und effizientes Heizsystem, präzise Temperaturregelung, exzellente Temperaturverteilung im Chargenraum, effiziente und gleichmäßige Kühlung, kompaktes und modulares Design./ Industrien:
Luft- und Raumfahrt, Energie, Verteidigung, Medizin, Maschinenbau, Autoindustrie, Werkzeugbau, Härtereien./ Parameter:
Einzel-, Doppel- und Mehrkammer-Batch- und Schüttgutöfen, in horizontaler und vertikaler Konfiguration, Nieder-, Mittel- und Hochvakuum, Strahlungs- und Konvektionsheizung, Niederdruck- und Hochdruck- (HPGQ) Gaskühlung im Druck bis hin zu 25 bar oder Härten in Öl, volle Automatisierung, computergestützte Steuerungssysteme. Einhaltung der weltweiten Sicherheits- und Qualitätssicherungsstandards.Produktmaterialien
Vakuumöfen für 2-10-15-25 Bar ausgestattet; N2, Ar oder He Abschreckgas
Systeme mit kürzeren Zykluszeiten, erhöhte Durchsatz und präzise Prozessüberwachung
Komplette Familie von Vakuum-Wärmebehandlungsanlagen
Breites Anwendungsspektrum, kurze Zykluszeiten, geringe Betriebskosten, umweltfreundlich
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